ឧបករណ៍ចាប់សញ្ញាសីតុណ្ហភាព និងសំណើមសម្រាប់ប្រព័ន្ធគ្រប់គ្រងសីតុណ្ហភាពបន្ទប់ស្អាត Semiconductor
ការបង្ហាញផលិតផល
សីតុណ្ហាភាពនិងសំណើមនៃកន្លែងស្អាតត្រូវបានកំណត់ជាចម្បងយោងទៅតាមតម្រូវការដំណើរការ ប៉ុន្តែនៅក្រោមលក្ខខណ្ឌនៃការបំពេញតម្រូវការដំណើរការ អារម្មណ៍នៃការលួងលោមគួរតែត្រូវបានយកមកពិចារណា។ជាមួយនឹងភាពប្រសើរឡើងនៃតម្រូវការអនាម័យខ្យល់ មាននិន្នាការនៃតម្រូវការតឹងរ៉ឹងកាន់តែច្រើនឡើងសម្រាប់សីតុណ្ហភាព និងសំណើម។
ដោយសារភាពត្រឹមត្រូវនៃដំណើរការគឺកាន់តែល្អ ដូច្នេះជួរការប្រែប្រួលសីតុណ្ហភាពគឺកាន់តែតិចទៅៗ។ជាឧទាហរណ៍ នៅក្នុងដំណើរការនៃការប៉ះពាល់ lithographic នៃការផលិតសៀគ្វីរួមបញ្ចូលគ្នាទ្រង់ទ្រាយធំ ភាពខុសគ្នានៃមេគុណពង្រីកកម្ដៅរវាងកញ្ចក់ និងស៊ីលីកុន wafer ជាសម្ភារៈរបាំងគឺតម្រូវឱ្យតូចជាង និងតូចជាង។អង្កត់ផ្ចិត 100um ស៊ីលីកុន wafer សីតុណ្ហភាពកើនឡើង 1 ដឺក្រេនឹងបណ្តាលឱ្យមានការពង្រីកលីនេអ៊ែរ 0.24um ដូច្នេះត្រូវតែមានសីតុណ្ហភាព ± 0.1 ដឺក្រេ ក្នុងពេលជាមួយគ្នាតម្លៃសំណើមជាទូទៅទាប ពីព្រោះមនុស្សញើស ផលិតផលនឹងមានការបំពុល។ ជាពិសេសខ្លាចសិក្ខាសាលា semiconductor សូដ្យូម សិក្ខាសាលានេះមិនគួរលើសពី 25 ដឺក្រេទេ។
សំណើមខ្ពស់បង្កបញ្ហាកាន់តែច្រើន។នៅពេលដែលសំណើមដែលទាក់ទងលើសពី 55% ទឹកសន្សើមនឹងបង្កើតនៅលើជញ្ជាំងនៃបំពង់ទឹកត្រជាក់ដែលនឹងបង្កឱ្យមានគ្រោះថ្នាក់ផ្សេងៗប្រសិនបើវាកើតឡើងនៅក្នុងឧបករណ៍ជាក់លាក់ឬសៀគ្វី។នៅពេលដែលសំណើមដែលទាក់ទងគឺ 50% វាងាយនឹងច្រេះ។លើសពីនេះ នៅពេលដែលសំណើមខ្ពស់ពេក ធូលីដែលជាប់នឹងផ្ទៃនៃបន្ទះឈីបស៊ីលីកុន នឹងត្រូវបានស្រូបយកដោយសារធាតុគីមីទៅលើផ្ទៃ ដើម្បីទប់ទល់នឹងការដកយកចេញ។សំណើមដែលទាក់ទងកាន់តែខ្ពស់ ការស្អិតគឺពិបាកក្នុងការយកចេញ ប៉ុន្តែនៅពេលដែលសំណើមដែលទាក់ទងគឺទាបជាង 30% ភាគល្អិតងាយនឹងស្រូបទៅលើផ្ទៃដោយសារតែសកម្មភាពនៃកម្លាំងអេឡិចត្រូត ហើយឧបករណ៍ semiconductor មួយចំនួនធំគឺ ងាយនឹងបែកបាក់។ជួរសីតុណ្ហភាពល្អបំផុតសម្រាប់ការផលិត wafer គឺ 35-45% ។
ដូច្នេះការគ្រប់គ្រងសីតុណ្ហភាព និងសំណើមមានសារៈសំខាន់ជាពិសេស HENGKO អាចផ្តល់ឱ្យអ្នកនូវស៊េរីនៃឧបករណ៍បញ្ជូនសីតុណ្ហភាព និងសំណើម ដំណោះស្រាយកែច្នៃតាមតម្រូវការ!
ឧបករណ៍ចាប់សញ្ញាសីតុណ្ហភាព និងសំណើមសម្រាប់ប្រព័ន្ធគ្រប់គ្រងសីតុណ្ហភាពបន្ទប់ស្អាត Semiconductor
មិនអាចស្វែងរកផលិតផលដែលបំពេញតម្រូវការរបស់អ្នកបានទេ?ទាក់ទងបុគ្គលិកផ្នែកលក់របស់យើងសម្រាប់សេវាកម្មប្តូរតាមបំណង OEM/ODM! 
